顾昭昭走到工作台旁，拿起铅笔和一张草稿纸。

“问题不在拉晶参数上，参数没毛病。”

她画了个坩埚截面示意图，三笔勾完。

“问题出在坩埚的热场分布，你们的加热器是单区控温，坩埚中心和边缘的温差，实际上比你们仪表读出来的大。”

吴建华盯着那个截面图：“大多少？”

“中心和边缘的实际温差在八到十二度之间。你们的仪表只能测到坩埚外壁温度，内部熔体边缘的真实温度，测不着。”

老周站在旁边，嘴巴张的老大，手里记录本忘了写。

“晶体生长过程中，边缘冷得比中心快，热应力集中，就产生微裂纹，晶体越大，效应越明显。”

顾昭昭在截面图上添了几个箭头，标出热流方向。

“两英寸的时候问题不大，尺寸小，温差效应弱。三英寸一上来，边缘应力就扛不住了。”

吴建华的脸沉下来了。

他干了几十年，热场梯度的重要性当然清楚。

可设备条件摆在那儿，一直默认单区控温够用。

“能不能改？”

吴建华没绕弯子。

“两个办法。”

顾昭昭竖起两根手指。

“第一个是换双区加热器，但你们现有的炉子改造起来至少两个月。”

“第二个是在坩埚外壁加一层导热均衡层。相当于给坩埚穿一件棉袄，把热量匀开。”

她在草稿纸上写下导热均衡层的具体尺寸参数和安装位置。

“第二种方案，三天就能改完。”

吴建华拿起那张草稿纸，看了三遍。

“老周。”

“在。”

“去找材料组的老赵，让他今天下午就备料。”

“是！”

老周抱着纸就往外跑。

吴建华搓了搓手，转向顾昭昭。

这回他脸上没有尴尬，也没有客套。

“顾总工，我搞了三十年半导体，坩埚热场这个问题困了我们组至少五年。五年，换了三茬人，谁都没吃透。你来了两趟，全给捅破了。”

顾昭昭没接话。

她从帆布包里掏出笔记本，翻到夹着标签的那一页。

“吴所长，衬底的事交给你继续跑。我今天来，还有另一件事。”

她走到实验室角落那块积了粉笔灰的大黑板前。

“T/R组件。”

吴建华愣了一下。

顾昭昭拿起粉笔，没打底稿，直接落笔。

第一根线条落在黑板左侧。

功率放大模块。

她画的不是原理框图，是实际的单片电路拓扑。

粉笔在黑板上刷刷地响。